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                          潔凈無(wú)氧烘箱,氮氣無(wú)氧 烘箱

                          潔凈無(wú)氧烘箱,氮氣無(wú)氧 烘箱

                          簡(jiǎn)要描述:

                          潔凈無(wú)氧烘箱,氮氣無(wú)氧 烘箱用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).半導體晶片、半導體封裝和MEMS器件的批量生產(chǎn)。主要用于PI/CPI固化,BCB固化,PBO固化,LCP纖維熱處理。

                          電子級PI(聚酰亞胺)薄膜在半導體及微電子工業(yè)領(lǐng)域的應用主要表現在以下幾方面:

                          1、粒子遮擋膜:高純度的聚酰亞胺涂層膜是一種有效的耐輻射和抗粒子的遮擋材料;

                          2、微電子器件的鈍化層和緩沖內涂層:

                          聚酰亞胺作為鈍化層和緩沖保護層在微電子工業(yè)上應用非常廣泛。PI 涂層可有效地阻滯電子遷移、防止腐蝕。PI 層保護的元器件具有很低的漏電流,可增加器件的機械性能,防止化學(xué)腐蝕,也可有效地增加元器件的抗潮濕能力。PI 薄膜具有緩沖功能,可有效地降低由于熱應力引起的電路崩裂斷路,減少元器件在后續的加工、封裝和后處理過(guò)程中的損傷;

                          3、多層金屬互聯(lián)電路的層間介電材料:聚酰亞胺(雋思PI無(wú)氧烘箱)材料(主要以PI膜為產(chǎn)品形式)可作為多層布線(xiàn)技術(shù)中多層金屬互聯(lián)結構的層間介電材料。多層布線(xiàn)技術(shù)是研制生產(chǎn)具有三維立體交叉結構超大規模高密度高速度集成電路的關(guān)鍵技術(shù);

                          4、光電印制電路板的重要基材:聚酰亞胺的折射率大小可以通過(guò)調整共聚物的含氟量,含氟量愈高,含氟聚酰亞胺薄膜折射率愈小,從而調節折射率的大小,所以波導芯層和包層都可以采用聚酰亞胺。


                          潔凈無(wú)氧烘箱,氮氣無(wú)氧 烘箱性能

                          溫度范圍:RT+20~450℃;

                          溫度均勻性:≤±1.5%℃;

                          升溫速度:0-8℃/min;

                          氧濃度:20ppm

                          工作尺寸:2-12寸晶圓及方片兼容,可尺寸定制

                          電源:AC380V/50HZ,

                          操作方式:人機界面+PLC,自動(dòng)控制,程式運行

                          進(jìn)氣口:φ10mmN2進(jìn)氣、流量計控制/可調

                          升溫方式:階梯升溫

                          降溫功能:水冷+風(fēng)冷

                          潔凈無(wú)氧烘箱,氮氣無(wú)氧 烘箱用途

                          無(wú)氧烘箱用于觸摸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽(yáng)能、新材料等行業(yè).半導體晶片、半導體封裝和MEMS器件的批量生產(chǎn)。主要用于PI/CPI固化,BCB固化,PBO固化,LCP纖維熱處理。




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