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                          光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱

                          光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱

                          簡(jiǎn)要描述:

                          光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱應用多晶硅,石英,太陽(yáng)能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。

                            光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱研發(fā)背景

                                 集成電路光刻工藝中常使用HMDS對晶圓襯底進(jìn)行黏附處理,來(lái)提高光刻膠與襯底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷(Si(CH3)3)2NH,行業(yè)所要求純度大于99.7%。



                          HMDS黏附機  HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱作用



                                襯底在空氣中易形成厚度為幾個(gè)原子層的二氧化硅薄膜,由于其具有親水性,會(huì )吸附空氣中的水分到襯底表面。光刻膠涂層多為有機疏水材料,這就造成了光刻膠與襯底黏附性差。在實(shí)際生產(chǎn)中,常將HMDS霧化,并在特定的溫度和壓力條件下處理,來(lái)改變晶圓表面的親水性。其原理可以簡(jiǎn)述為HMDS中的有機基團取代晶圓表面水分子羥基,使晶圓表面由親水性變?yōu)槭杷浴?/span>



                            光刻膠HMDS烘箱  HMDS疏水處理烘箱實(shí)用性

                                 在光刻中,光刻膠的黏附效果受到光刻涂層,襯底材料,以及光刻工藝三方面的影響。HMDS的黏附處理不只是對硅基襯底有效。也用于其他襯底,諸如多晶硅,石英,太陽(yáng)能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。

                          HMDS烘箱兼容2~12寸晶圓及碎片、方片等。

                          設備名稱(chēng):HMDS烘箱

                          設備型號: JS-HMDS90

                          內腔尺寸:450×450×450、350×350×350(mm)可定制

                          材質(zhì):外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑、304不銹鋼,內箱采用316L醫用級不銹鋼

                          工藝溫度:110-160℃

                          真空度:≤1torr

                          工藝運行:自動(dòng)運行


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