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                          無(wú)塵烤箱廠(chǎng)家 烘箱設備
                          無(wú)塵烤箱廠(chǎng)家 烘箱設備

                          無(wú)塵烤箱廠(chǎng)家無(wú)塵等級:Class 100、10; 溫度范圍:RT+10~300℃;用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤

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                          清潔烤箱,無(wú)塵烤箱 工業(yè)烘箱
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                          清潔烤箱,無(wú)塵烤箱用于IC生產(chǎn)過(guò)程中極為重要的光刻工藝中預烘烤(軟烘),脫水烘烤,涂膠后的堅膜烘烤(硬烘);也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、OLED、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。

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                          無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂(PI)烤箱 工業(yè)烘箱
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                          為了獲得良好的聚酰亞胺性能,非常好的溫度均勻性,低氧含量和低顆粒數是非常重要的,無(wú)塵烤箱,非光敏型聚酰亞胺樹(shù)脂(PI)烤箱腔內的氣體保持相當干凈(100級),良好的溫度均勻性。通過(guò)氮氣吹掃可將氧氣含量降低至20ppm以下。這保證了非光敏聚酰亞胺的優(yōu)異工藝結果。

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                          無(wú)塵室烤箱,半導體無(wú)塵烤箱 工業(yè)烘箱
                          無(wú)塵室烤箱,半導體無(wú)塵烤箱 工業(yè)烘箱

                          無(wú)塵室烤箱,半導體無(wú)塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén);HMDS無(wú)塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

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                          無(wú)塵室干燥箱,試驗用百級烤箱 工業(yè)烘箱
                          無(wú)塵室干燥箱,試驗用百級烤箱 工業(yè)烘箱

                          無(wú)塵室干燥箱,試驗用百級烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤、工裝夾具烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén);也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

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                          加工半導體用烤箱, SECS / GEM無(wú)塵烤箱
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                          加工半導體用烤箱, SECS / GEM無(wú)塵烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后固化、堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥、實(shí)驗室等生產(chǎn)及科研部門(mén);可以使用TCP / IP(使用HSMS標準,SEMI E37)或基于RS-232的協(xié)議與支持GEM的主機進(jìn)行通信。通常這兩種協(xié)議都受支持。每臺設備都可以使用由GEM

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                          無(wú)塵烤箱 烘箱設備
                          無(wú)塵烤箱 烘箱設備

                          無(wú)塵烘箱,不銹鋼無(wú)塵烤箱無(wú)塵等級:Class 100、10; 溫度范圍:RT+10~300℃;用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤、涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤

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